シワ形成の新メカニズム発見！細胞の遊走スピードに着目した研究

シワ形成の新たな発見

シワは多くの人々が悩む肌の問題ですが、最近神奈川県に本社を置くポーラ化成工業がこのシワに関連する細胞メカニズムについての研究を発表しました。この研究は、シワ部位の皮膚において細胞の遊走因子である「ビンキュリン」の発現が低下していることを明らかにし、その結果、線維芽細胞の遊走スピードが低下することがシワ形成に影響を及ぼす可能性があることを示しています。

研究の背景

真皮には、弾力性を保つために重要なコラーゲンやエラスチンが含まれており、これらを生成する線維芽細胞が活発に活動することで肌のハリと輝きが保たれています。しかし、加齢や環境要因により、この線維芽細胞の機能が低下すると、コラーゲンの生成や修復が遅れ、シワが形成されやすくなります。

今回の研究では、シワ部位において、線維芽細胞の遊走因子であるビンキュリンがどのように関与しているかに注目し、詳細な解析を行いました。

ビンキュリンの役割

ビンキュリンは、線維芽細胞が皮膚内を遊走する際に必要なタンパク質であり、細胞が周囲の環境を感知し、必要な場所に適切に到達するための重要な役割を果たしています。研究チームは、シワのある部位とない部位の真皮を比較し、シワ部位でビンキュリンの発現が低下していることを発見しました。このため、線維芽細胞が効果的に遊走できず、シワの形成に寄与していることが示唆されました。

遊走スピードの低下

さらに、ビンキュリンの発現が少ない場合、線維芽細胞の遊走スピードが遅くなることも確認されました。具体的には、ビンキュリンの発現量を人工的に減少させた線維芽細胞は、正常な細胞と比べて遊走距離が短くなることが判明しました。これにより、シワの形成は、線維芽細胞が適切に作業を進められないことに起因している可能性があります。